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石墨烯基礎及氫氣刻蝕 版權信息
- ISBN：9787502481971
- 條形碼：9787502481971 ; 978-7-5024-8197-1
- 裝幀：平裝-膠訂
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>>
石墨烯基礎及氫氣刻蝕 本書特色
石墨烯由于具有獨特的晶體結構、優異的電學、光學和力學性質，在納米電子器件和儲能應用等諸多領域引起科研人員的極大關注。近年來，石墨烯的基礎研究越來越深入，石墨烯器件的發展也隨之突飛猛進！妒┗A及氫氣刻蝕》內容涵蓋了石墨烯的晶體結構和電子結構、石墨烯的性質及應用、石墨烯的制備和表征，以及石墨烯的氫氣刻蝕研究等。該書對推動石墨烯的基礎研究，特別是石墨烯的制備和刻蝕方面有著重要的指導作用。
《石墨烯基礎及氫氣刻蝕》面對的讀者大致可以分為兩類：□□類是剛開始從事石墨烯材料相關研究的科研人員，該書可以為其提供目前石墨烯發展的一個全面的、具體的介紹，使其能夠快速地掌握石墨烯的研究現狀；第二類是與石墨烯二維材料具有一定聯系的教育工作者或興趣愛好者，可以作為材料科學領域課程的一部分，也可以作為一本相關的科普讀物。
石墨烯基礎及氫氣刻蝕 內容簡介
本書首先介紹了石墨烯的晶體和能帶結構, 石墨烯的制備方法以及在電子器件、熱傳導、場發射、傳感器、復合物和能量存儲等方面的應用 ; 然后本書詳細介紹了利用CVD法在Mo膜和拋光Cu襯底上制備高質量的石墨烯薄膜 ; *后詳細研究了石墨烯的H2刻蝕現象。
石墨烯基礎及氫氣刻蝕 目錄
1 緒論
參考文獻
2 石墨烯的晶體結構和電子結構
2．1 石墨烯的晶體結構
2．2 石墨烯的電子結構
2．2．1 單層石墨烯的電子結構
2．2．2 石墨烯中無質量的狄拉克費米子
2．2．3 雙層石墨烯的電子結構
2．2．4 多層石墨烯的電子結構
參考文獻
3 石墨烯的性質及應用
3．1 石墨烯能帶隙的打開
3．2 石墨烯基微電子器件和納米電子器件
3．2．1 石墨烯電路中的晶體管數量
3．2．2 數字邏輯門
3．2．3 數字非易失性存儲器
3．3 高頻電子器件
3．3．1 模擬電壓放大器
3．3．2 石墨烯環振蕩器
3．4 基于分層材料的器件
3．5 新型的垂直型／平面型晶體管和器件
3．5．1 垂直隧道晶體管和垂直熱電子晶體管
3．5．2 2d異質結構的面內傳輸
3．6 電子發射
3．7 石墨烯飽和吸收劑和相關設備
3．8 石墨烯相關應用舉例
3．8．1 透明電極
3．8．2 納米電子器件
3．8．3 儲能應用
3．8．4 傳感器方面的應用
3．8．5 復合材料方面的應用
參考文獻
4 石墨烯的制備、表征及轉移
4．1 干法剝離
4．1．1 用于研究目的的機械剝離
4．1．2 陽極鍵合
4．1．3 激光燒蝕和光剝離
4．2 液相剝離
4．2．1 石墨的液相剝離
4．2．2 氧化石墨的液相剝離
4．2．3 插層石墨的液相剝離
4．3 SiC熱蒸發法
4．4 化學氣相沉積（CVD）
4．4．1 金屬襯底上熱CVD法制備石墨烯
4．4．2 絕緣襯底上熱CVD法制備石墨烯
4．4．3 CVD法制備大尺寸石墨烯晶疇
4．5 其他制備方法
4．5．1 過渡金屬表面析出法
4．5．2 碳納米管解理法
4．6 石墨烯的表征技術
4．6．1 光學顯微鏡
4．6．2 原子力顯微鏡
4．6．3 掃描電子顯微鏡
4．6．4 透射電子顯微鏡
4．6．5 拉曼光譜
4．7 石墨烯的轉移技術
參考文獻
……
5 CVD法在單晶Mo膜襯底上制備高質量石墨烯薄膜
6 CVD法在拋光Cu襯底上制備高質量石墨烯薄膜
7 CVD法制備的石墨烯晶疇的H2刻蝕現象研究
8 CVD石墨烯晶疇的邊緣刻蝕現象研究
參考文獻
2 石墨烯的晶體結構和電子結構
2．1 石墨烯的晶體結構
2．2 石墨烯的電子結構
2．2．1 單層石墨烯的電子結構
2．2．2 石墨烯中無質量的狄拉克費米子
2．2．3 雙層石墨烯的電子結構
2．2．4 多層石墨烯的電子結構
參考文獻
3 石墨烯的性質及應用
3．1 石墨烯能帶隙的打開
3．2 石墨烯基微電子器件和納米電子器件
3．2．1 石墨烯電路中的晶體管數量
3．2．2 數字邏輯門
3．2．3 數字非易失性存儲器
3．3 高頻電子器件
3．3．1 模擬電壓放大器
3．3．2 石墨烯環振蕩器
3．4 基于分層材料的器件
3．5 新型的垂直型／平面型晶體管和器件
3．5．1 垂直隧道晶體管和垂直熱電子晶體管
3．5．2 2d異質結構的面內傳輸
3．6 電子發射
3．7 石墨烯飽和吸收劑和相關設備
3．8 石墨烯相關應用舉例
3．8．1 透明電極
3．8．2 納米電子器件
3．8．3 儲能應用
3．8．4 傳感器方面的應用
3．8．5 復合材料方面的應用
參考文獻
4 石墨烯的制備、表征及轉移
4．1 干法剝離
4．1．1 用于研究目的的機械剝離
4．1．2 陽極鍵合
4．1．3 激光燒蝕和光剝離
4．2 液相剝離
4．2．1 石墨的液相剝離
4．2．2 氧化石墨的液相剝離
4．2．3 插層石墨的液相剝離
4．3 SiC熱蒸發法
4．4 化學氣相沉積（CVD）
4．4．1 金屬襯底上熱CVD法制備石墨烯
4．4．2 絕緣襯底上熱CVD法制備石墨烯
4．4．3 CVD法制備大尺寸石墨烯晶疇
4．5 其他制備方法
4．5．1 過渡金屬表面析出法
4．5．2 碳納米管解理法
4．6 石墨烯的表征技術
4．6．1 光學顯微鏡
4．6．2 原子力顯微鏡
4．6．3 掃描電子顯微鏡
4．6．4 透射電子顯微鏡
4．6．5 拉曼光譜
4．7 石墨烯的轉移技術
參考文獻
……
5 CVD法在單晶Mo膜襯底上制備高質量石墨烯薄膜
6 CVD法在拋光Cu襯底上制備高質量石墨烯薄膜
7 CVD法制備的石墨烯晶疇的H2刻蝕現象研究
8 CVD石墨烯晶疇的邊緣刻蝕現象研究
展開全部
石墨烯基礎及氫氣刻蝕 作者簡介
王彬，1983年生，男，渤海大學新能源學院講師？蒲谐晒豪肅VD法在過渡金屬襯底上制備出大面積均勻高質量石墨烯薄膜。曾出版《激光技術與太陽能電池》(王月,王彬,王春杰 箸，冶金工業出版社)。
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